近年來，tac(三醋酸纖維薄膜)和pet(聚對苯二甲酸乙二醇酯)基材在制程、鏡頭及電子顯示屏上等精密過程及設備保護的應用越來越廣泛和深入。但tac和pet本身的絕緣性能，在接觸和摩擦過程中容易產生和聚集靜電荷。一定量的靜電荷的存在會對TAC和PET的電子產品造成靜電沖擊，會破壞電子產品性能和引發安全事故，也會因為表面靜電出現塵埃吸附。與此同時，制程過程、電子顯示屏表面的高反射會嚴重影響生產或者體驗，因此我們需要進行減反射及抗靜電處理，實現防反射(anti-reflective)、降低電阻的最終目的。

      防反射層(AR)一般可以采用三種方法成膜，包括真空蒸發、濕法涂布和磁控濺射鍍膜。其中真空蒸發鍍膜的鍍膜均勻性差，薄膜涂層的附著力差，重復性差，難以獲得結晶結構的薄膜。磁控濺射均勻性好、附著力強、平均反射率在0.5％左右備受青睞。但是磁控濺射成本高，且達到AR抗靜電效果需求多道工序，往往良率不足，因此威亮公司推出了濕法涂布方案，一次性解決了AR減反射及抗靜電效果，工序簡單，效果好，成本優勢更加明顯。

      威亮推出的AR抗靜電膜有PET和TAC兩種基材，透光率94%~97%可調，抗靜電等級6~8，可以很好的滿足客戶制程、鏡頭保護等需求，同時可以根據客戶需求開發AG、AF等效果，滿足不同的產品應用場景。